随着半导体制程技术飞速发展，芯片线宽已经进入纳米级，对洁净室内的环境要求也越来越高。比细颗粒物污染物尺寸更小的气态分子污染物(AMC)，能深入到半导体器件的微观结构中，沉积在晶圆表面，影响器件的性能和良率，对半导体制程产生显著影响。已有研究表明：为最大程度减少AMC对工艺良率的影响，洁净室内的重点AMC浓度需要控制在万亿分之一（pptv）的水平。
半导体生产洁净室内的气态分子污染物AMC 主要来源于外部环境空气和内部工艺过程等。内部环境产生的AMC可能来源于制造过程中产生、使用的化学品的释放（如清洗剂等）、洁净室内建筑材料等的释放、人员活动等。外部环境空气通过空气净化装置和过滤系统进入洁净室影响洁净室内空气环境。通过对洁净室内外气体的监测，可以判断AMC来源于外部环境还是内部源。甚至可以通过对不同生产工艺过程中AMC的监测，追踪AMC的影响。洁净室内外AMC的监测对于半导体中AMC的控制意义重大。
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